氣相沉積爐設(shè)備特點(diǎn)是什么
氣相沉積爐設(shè)備特點(diǎn)是什么
氣相沉積爐適用于化學(xué)氣相沉積法制備碳-碳復(fù)合材料,也可用于以碳?xì)錃怏w(如C3H8等)為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理,或以三氯甲硅烷(MTS)為氣源的材材料料表面抗氧化涂層、基體改性等。
裝料方式有上裝料、底裝料、臥式三種裝料方式。該氣相沉積爐設(shè)備特點(diǎn)如下:
1.多通道沉積氣路,流場均勻,無沉積死角,沉積效果好;
2.采用先進(jìn)的控制技術(shù),能精密控制MTS的流量和壓力,爐膛內(nèi)沉積氣流穩(wěn)定,壓力波動范圍小;
3.氣相沉積爐設(shè)備自動化高,關(guān)鍵執(zhí)行電氣件采用進(jìn)口;操作直觀、簡便,觸摸屏經(jīng)過開發(fā),可動態(tài)顯示爐子運(yùn)行狀況并具有自我診斷功能,程序段可直接輸入。
4.采用特殊結(jié)構(gòu)沉積室,密封效果好,抗污染能力強(qiáng)。
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