真空燒結爐的用途及分類
真空燒結爐的用途及分類
真空燒結爐主要用于粉末冶金制品、金屬注射成型制品、不銹鋼基、硬質合金、超合金、高比重合金、陶瓷材料、磁性材料、釹鐵硼等的燒結。
真空爐的分類主要有兩種:
一種是以溫度分為普通燒結爐(1300℃及以下),中溫燒結爐(1300℃~1600℃)、高溫燒結爐(1600℃~2400℃)。
另一種是以真空度的高低來劃分,可分為低真空、高真空和超高真空燒結爐。
用途及特點:
真空燒結爐主要應用于特種陶瓷(碳化硅(SiSIC)、碳化硼、氮化硅以及氮化硅結合碳化硅等)、高熔點金屬、硬質合金以及其它粉體材料的高溫燒結,更適用于碳化硅(SiSIC)制品的重結晶燒成工藝,也可用于對一些高熔點金屬進行退火及光亮、除氣處理等。
真空甩帶爐采用中頻電源加熱原理,有效避免了電阻內熱真空爐的高溫絕緣問題,因此在2000℃~2400℃的溫度段相比電阻爐的有較大的優(yōu)勢。
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