氣相沉積爐的特點是什么
氣相沉積爐的特點是什么
氣相沉積爐可用于以碳氫氣體為碳源的復合材料的化學氣相沉積。其中CVD沉積爐是指高溫下的氣相反應,例如,金屬鹵化物、有機金屬、碳氫化合物等的熱分解,氫還原或使它的混合氣體在高溫下發(fā)生化學反應以析出金屬、氧化物、碳化物等無機材料的方法。這種技術開始是作為涂層的手段而開發(fā)的,但目前,不只應用于耐熱物質(zhì)的涂層,而且應用于高純度金屬的精制、粉末合成、半導體薄膜等,是一個頗具特征的技術領域。
設備特點在于:(1)在低溫下合成高熔點物質(zhì);(2)析出物質(zhì)的形態(tài)在單晶、多晶、晶須、粉末、薄膜等多種;(3)不僅可以在基片上進行涂層,而且可以在粉體表面涂層,特別是在低溫下可以合成高熔點物質(zhì),在節(jié)能方面做出了貢獻,作為一種新技術是大有前途的。
下面小編詳細列舉幾條爐子的特點,以便大家能更好的了解爐子的性能。
氣相沉積爐工作區(qū)尺寸可達2.5m×2m×4.5m,能滿足超大型工件化學氣相沉積處理需求;并且,采用多溫區(qū)獨立控溫,溫度均勻性好;
與此同時采用特殊結(jié)構沉積室,密封效果好,抗污染能力強;
氣相沉積爐采用多通道沉積氣路,流場均勻,無沉積死角,沉積效果好;
氣相沉積爐對炭沉積過程中產(chǎn)生的焦油、固體粉塵、有機氣體等能進行有效處理。
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