真空甩帶爐功能及應用范圍
真空甩帶爐功能及應用范圍
真空甩帶爐采用氣缸升降,可實現(xiàn)石英坩堝到銅輪的距離微調、自動下降、延時0.1~5秒自動噴氣,每次可甩5~50g非晶薄帶或顆粒;帶材連續(xù),厚薄均勻!
熔煉澆注功能:可一次性熔煉50~500g金屬,熔煉好后可澆鑄在錠模內。并且,真空甩帶爐可根據(jù)模具的尺寸,可以澆鑄直徑10mm~50mm的棒料或其他規(guī)格的成品;也可以澆鑄金屬錠或者直接制備非晶金屬棒或其他異形產品;
真空甩帶爐采用直連泵加油擴散泵(或者分子泵),用油擴散泵真空度可達6.67×10-3Pa,用分子泵真空度可達6.67×10-4Pa,爐體全采用不銹鋼,并做拋光處理
八佳電氣的真空熔煉爐主要由真空腔體、高頻加熱系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、噴鑄甩帶系統(tǒng)、熔煉澆注系統(tǒng)、充放氣系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等組成。
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