真空甩帶爐的使用
真空甩帶爐的使用
真空甩帶爐廠家采用熔態(tài)單輥旋淬法制備非晶薄帶,及真空噴鑄法制備大塊非晶材料。本設(shè)備也可用于感應(yīng)熔煉澆鑄各類合金小試樣。適用于大專院校、科研院所及企業(yè)進(jìn)行新材料的科研與小批量的生產(chǎn)。
真空甩帶爐甩帶功能采用氣缸升降,可實(shí)現(xiàn)石英坩堝到銅輪的距離微調(diào)、自動(dòng)下降、延時(shí)0.1~5秒自動(dòng)噴氣,每次可甩5~50g非晶薄帶或顆粒;熔煉澆注功能:可一次性熔煉50~500g金屬,熔煉好后可澆鑄在錠模內(nèi)。根據(jù)模具的尺寸,可以澆鑄直徑10mm~50mm的棒料或其他規(guī)格的成品;可以澆鑄金屬錠或者直接制備非晶金屬棒或其他異形產(chǎn)品。
真空甩帶爐采用直連泵加油擴(kuò)散泵(或者分子泵),用油擴(kuò)散泵真空度可達(dá)6.67×10-3Pa,用分子泵真空度可達(dá)6.67×10-4Pa,爐體全采用不銹鋼,并做拋光處理。
真空熔煉爐主要由真空腔體、高頻加熱系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、噴鑄甩帶系統(tǒng)、熔煉澆注系統(tǒng)、充放氣系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等組成。
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